本文要点
- 规则方法难以适应众多封装,深度学习从标注样本中学会识别元件。
- 精度取决于数据覆盖、标注一致性,以及按封装分组的严格验证。
- 微小元件、密集排布、多层重叠、混装空穴是常见难点,应专门测试。
为什么 X 光点料要训练模型
X 光点料的任务听起来简单:在一张料盘的 X 光图像里,数出有多少颗元件。早期的图像处理方法多依靠固定规则,例如设定灰度阈值,把暗点分割出来再逐个计数。这种方法针对单一物料可以调得很好,但 SMT 工厂的物料种类太多:电阻、电容、二极管、三极管、各类 IC,封装尺寸相差很大;料带有纸带和塑料带,卷盘直径和材质各不相同;满盘和只剩外圈几层的料盘,图像也完全不一样。每换一种料就要重新调整规则,现场很难长期维护。
深度学习的做法是不手写规则,而是让模型看大量已经标注好的 X 光图像,自己学会“什么样的图案是一颗元件”。训练好的模型面对没见过的料盘,只要元件外观落在训练数据覆盖的范围内,通常能给出稳定的结果。所以讨论深度学习点料的精度,实际上是在讨论三件事:训练数据覆盖得够不够,标注做得准不准,验证方法是否严谨。
需要说明的是,模型并不能弥补成像本身的问题。如果图像模糊、对比度不够,或者料盘摆放偏斜导致部分区域被遮挡,再好的模型也只能在有限的信息上做判断。因此设备的成像质量、料盘定位方式和模型能力要一起看,不能只问算法。
精度来源之一:数据覆盖
模型只能可靠地识别它见过类似样子的东西。训练数据要尽量覆盖工厂实际会遇到的各种变化:
- 封装类型:从微小的片式元件到较大的 IC、连接器,每一类都需要足够的样本。
- 料带与卷盘:纸带、塑料带,不同直径和材质的卷盘,会改变图像的背景和对比度。
- 剩余数量:满盘、半盘、只剩外圈几层,元件在图像中的分布差别很大。
- 成像条件:不同的射线参数和曝光设置下,同一种元件的明暗程度也会变化。
数据不足的地方,往往就是模型容易出错的地方。一个模型在常见阻容料上表现很好,并不代表它在某种少见封装上同样可靠。
精度来源之二:标注与验证
标注
训练用的图像需要人工标注,告诉模型每一颗元件在哪里。标注本身也会出错:漏标、重复标注、对被遮挡元件的判断前后不一致。因此标注规则要事先写清楚,例如部分被遮挡的元件算不算、图像边缘被截断的元件怎么处理,并安排第二人复核。标注不一致,模型就会把这种不一致一起学进去。
验证
评估模型时,必须使用训练时没有用过的料盘图像,并以人工逐颗清点的结果作为参照。更重要的是按封装类型分组统计:总体准确率可能被大量容易数的阻容料拉高,而难数封装的偏差被平均掉。分组看结果,才能知道模型在哪类物料上可以直接使用,在哪类物料上需要补充样本或保留人工复核。
哪些料比较难数
结合 X 光成像的原理,下面几类情况在行业里普遍被认为难度较高:
| 情况 | 难在哪里 | 常见应对 |
|---|---|---|
| 01005、0201 等微小元件 | 单颗元件在图像中只占很少像素,金属端子信号弱,容易与噪声混淆 | 提高成像分辨率,增加此类样本,单独评估 |
| 小间距、密集排布的物料 | 相邻元件在图像中距离很近,边界不清,可能被当成一颗 | 标注时重点区分相邻元件,验证时单列统计 |
| 内外圈多层重叠 | 卷盘上各圈元件在投影方向互相叠加,靠近盘芯处尤其明显 | 结合料带排布规律辅助判断,对重叠区域专门验证 |
| 混装或空穴 | 料带中有空穴、个别位置缺料,或盘内物料不一致 | 按图像中实际存在的元件计数,不按料带长度推算,异常盘提示复核 |
| 内部结构复杂的元件 | 单颗元件内部有多处金属结构,可能被误认为多颗 | 按封装积累样本,并与每盘标准数量交叉核对 |
这些难点没有一劳永逸的解法,更多依靠持续积累数据和分组验证。工厂评估点料设备时,可以有意识地把本厂的难数物料拿出来专门测试,而不是只看常见物料的结果。
工厂如何验收和持续使用
- 列出本厂常用封装,按用量和单价确定重点物料。
- 每类重点物料抽取若干盘,先人工逐颗清点,再用设备计数,记录差异。
- 按封装分组统计偏差,确定哪些物料可以直接采用计数结果,哪些需要复核。
- 引入新封装或新供应商时,先做小批量比对,再纳入日常使用。
- 保存计数存疑的料盘图像和复核结果,作为后续分析和改进的依据。
验收不是一次性的工作。物料结构会随产品变化,定期复查分组结果,才能让点料数据长期可信。
另外,计数结果的用途也会影响验收标准。用于退库后更新账面数量时,关注的是长期累积偏差;用于判断一盘料够不够下一张工单时,关注的是剩余数量接近需求量时的判断是否可靠。验收前先想清楚结果给谁用、用来做什么决定,再确定抽样重点。
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